可申请发明专利、实用新型专利、外观设计专利,涵盖算法、工艺、结构等创新
芯片领域可申请的专利类型及对应技术方向
(一)发明专利
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结构创新类
- 包括新型晶体管架构(如GAAFET纳米片晶体管)、三维堆叠设计、异质集成技术等物理层突破;例如通过改变材料排列方式提升性能或降低功耗的解决方案。
- 示例:一种基于二维材料的场效应晶体管及其制造方法。
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制造工艺改进类
- 涉及光刻精度提升、蚀刻参数优化、掺杂浓度控制等生产流程中的核心技术;特别是能够缩短制程节点(如从7nm到3nm)、提高良品率的关键步骤。
- 示例:多束离子注入协同掺杂工艺及装置。
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功能模块设计类
- 针对特定应用场景开发的专用电路模块,如低功耗蓝牙射频前端、高精度ADC转换器、神经形态计算单元等具备独特算法实现的功能核。
- 示例:支持动态电压频率缩放的自适应电源管理电路。
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封装互联技术类
- 先进封装形式(FOWLP/EMIB)、高密度互连方案、热管理增强结构等提升整体系统效能的创新;例如通过硅桥接实现芯片间超高速通信的封装布局。
- 示例:具有嵌入式散热通道的扇出型封装结构。
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新材料应用类
- 采用新型半导体材料(碳化硅SiC、氮化镓GaN)、量子点材料或自旋电子学材料的器件设计与制备方法。
- 示例:基于石墨烯沟道的隧穿场效应晶体管及其制备方法。
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算法与架构协同类
- 硬件加速器与软件定义网络的结合方案,如存算一体架构下的稀疏矩阵运算加速策略,需同时保护硬件逻辑和配套指令集设计。
- 示例:面向边缘计算的可重构存内计算架构及调度算法。
(二)实用新型专利
保护对象 | 典型实施例 | 创新性要求 |
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电路板布局优化 | 多层PCB板的电磁干扰屏蔽设计 | 空间利用率显著提升或信号完整性改善 |
散热装置改良 | 液冷微通道与热管复合导热结构 | 同等体积下散热效率提高30%以上 |
接口连接器创新 | TypeC端口防误插机械锁定机构 | 操作便捷性与可靠性双重增强 |
测试夹具改进 | 支持在线烧录的自动化探针台 | 减少人工干预并缩短测试周期 |
(三)外观设计专利
适用于具有独特美学价值的芯片产品外观特征,包括但不限于:
✅ 标识图案:品牌LOGO的水渍防伪纹路设计;
✅ 造型轮廓:非对称几何切割的边缘处理;
✅ 表面质感:哑光喷砂与高抛光面的对比工艺;
⚠️注:需证明该外观并非由技术功能唯一决定。
常见问题与解答
Q1: 如果只是对现有芯片进行简单参数调整(如修改工作电压范围),能否获得授权?
👉 答:单纯调整规格参数通常不符合创造性要求,必须证明改动带来了意想不到的技术效果,例如通过动态电压调节使能效比提升20%,且这种改进需要具体的技术方案支撑(如新增反馈回路设计),建议结合电路级改造来申述创新点。
Q2: 开源硬件社区公开的芯片设计方案会影响我的专利申请吗?
👉 答:若您在他人发布前已就相同方案提交申请,则可主张优先权;反之若对方先公开,您的申请将因丧失新颖性被驳回,对策包括:①尽早完成申请流程;②在发明内容部分强调本申请独有的改进细节(如时钟树布线拓扑优化);③保留